НИЖНИЙ НОВГОРОД, 21 мая. /ТАСС/. Российский литограф, который может обеспечить создание чипов на 130 нанометров, планируется запустить в 2026 году. Об этом ТАСС в кулуарах ЦИПР-2024 сообщил заместитель министра промышленности и торговли РФ Василий Шпак.
"В 2026 году мы должны получить отечественный литограф на 130 нанометров", - сказал Шпак. Ранее он сообщил ТАСС, что первый отечественный литограф создан и проходит испытания.
По его словам, следующим станет разработка 90 нанометрового литографа. "Дальше будем идти поступательно на 90 нанометров и ниже. Поэтому не останавливаемся здесь (на уровне 130 нанометров - прим. ТАСС) . У нас принята комплексная программа для электронного машиностроения", - рассказал Шпак.
В октябре прошлого года сообщалось, что первый опытный образец литографа на 130 нанометров может быть создан к 2026 году.
Чипы размером 130 нм впервые были произведены в мире в 2001 году. Чипы с топологией 350-65 нм применяются в микроконтроллерах, силовой электронике, телекоммуникационных схемах, автомобильной электронике и других областях.
ТАСС - генеральное информационное агентство ЦИПР.