ВЛАДИВОСТОК, 6 сентября. /ТАСС/. Отечественный литограф, который обеспечит выпуск чипов на 130 нм, будет создан в 2026, в перспективе планируется выйти на топологию 90-65 нм. Об этом рассказал в беседе с ТАСС в рамках ВЭФ министр промышленности и торговли РФ Антон Алиханов.
По словам министра, Россия является одной из нескольких стран, которые могут создавать собственные литографы. В 2024 году уже появился первый с советских времен промышленный образец отечественного литографа, работающий на топологии 350 нм.
"К 2026 году будет создан литограф для работы на топологиях 130 нм. Лазеры для этих устройств также разрабатываются внутри страны. В планах - объявить следующую работу, чтобы выйти на топологию 90-65 нм", - рассказал Алиханов.
О форуме
Восточный экономический форум проходит 3-6 сентября во Владивостоке на площадке кампуса Дальневосточного федерального университета. Главная тема ВЭФ в 2024 году - "Дальний Восток-2030. Объединим усилия, создавая возможности". Деловые мероприятия ВЭФ-2024 разделены на семь тематических блоков: "Новые контуры международного сотрудничества", "Технологии независимости", "Финансовая система ценностей", "Россия дальневосточная", "Люди, образование и патриотизм", "Транспорт и логистика: новые маршруты" и "Мастер-планы: от архитектуры к экономике".
Организатор мероприятия - Фонд Росконгресс. ТАСС является генеральным информационным партнером форума.