В МЭИ разработали катод для электронного микроскопа нового поколения

Разработка основана на применении модифицированной поверхности вольфрама, обработанной в плазменной установке
Редакция сайта ТАСС
10:16

МОСКВА, 18 декабря./ТАСС/. Ученые Национального исследовательского университета "МЭИ" разработали катод для электронной пушки растровых электронных микроскопов высокого разрешения, который может стать новым инструментом для ряда наукоемких отраслей, включая микроэлектронику, материаловедение и биологию, сообщили в пресс-службе МЭИ.

"Наука движется вперед благодаря смелым идеям и упорной работе. Сегодня мы демонстрируем, как фундаментальные знания превращаются в решения, способные изменить будущее. Целый ряд наукоемких отраслей, таких как микроэлектроника, материаловедение и биология получат новый инструмент, который одновременно мощнее, надежнее и дешевле", – отметил ректор НИУ "МЭИ" Николай Рогалев, чьи слова приводит пресс-служба.

Как пояснили в университете, разработка основана на применении модифицированной поверхности вольфрама, обработанной в плазменной установке ПЛМ (плазменный линейный мультикасп). Технология предполагает создание на поверхности вольфрама тонких волокон диаметром от 20 до 40 нанометров и длиной 300–400 нанометров.

При подаче на катод электрического поля высокого напряжения (от 1 до 7 киловольт) эти волокна начинают испускать электроны без предварительного нагрева за счет явления полевой эмиссии. В отличие от традиционных решений, где используются тонкая вольфрамовая проволока с припаянным одиночным кристаллом вольфрама, новая разработка применяет вольфрам с модифицированной наноструктурированной поверхностью, что, как отмечают разработчики, значительно упрощает процесс производства.

Экспериментальные испытания показали, что ток электронной эмиссии с нового катода достигал 5 микроампер. Для сравнения, традиционные катоды обеспечивают ток пучка не более 0,1 микроампера. В МЭИ подчеркнули, что более широкий диапазон тока пучка электронов создает необходимый запас надежности работы катода, стабильности и яркости получаемых изображений поверхности материалов.

Исследования проводятся под руководством профессора Сергея Федоровича на кафедре общей физики и ядерного синтеза НИУ "МЭИ". В настоящее время научный коллектив работает над внедрением полученных результатов.

Плазменный линейный мультикасп (ПЛМ) – установка для обработки материалов, использующая плазму (ионизированный газ). Полевая эмиссия – явление, при котором электроны вырываются из материала под воздействием сильного электрического поля без нагрева.